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CIP在位清洗系統(tǒng)操作規(guī)程

發(fā)布時(shí)間:2021-12-17 關(guān)注次數(shù):

CIP在位清洗系統(tǒng)操作規(guī)程

1、目的:規(guī)范CIP清洗操作程序,進(jìn)行設(shè)備的維護(hù),保證生產(chǎn)連續(xù)正常進(jìn)行。

2、適用范圍

CIP清洗工段。

3.內(nèi)容

3.1清洗順序:40℃清水、2%堿、40℃清水、0.8%酸、90℃以上熱水、依次清洗。

3.2按規(guī)定時(shí)間清洗并記錄。

3.3加水量約80%,即蓋住加熱盤管即可。

3.4酸堿濃度:

3.4.1清洗前檢測(cè)濃度,不夠可添加適當(dāng)?shù)牧俊?/p>

3.4.2根據(jù)酸堿污染程度,決定是否重新配制。

3.5正確連接進(jìn)出分配器。

3.6時(shí)常檢查輸水器,防止阻塞。

3.7檢查管道、閥門無(wú)誤后,方可啟動(dòng)離心泵進(jìn)行清洗。

3.8當(dāng)用酸堿清洗時(shí),清洗完畢后,打開(kāi)回流泵,使酸堿分別流入酸罐、堿罐。

3.9再用清水進(jìn)行沖洗,清洗完畢。

3.10用試紙測(cè)試呈中性即可。

推薦產(chǎn)品:清洗設(shè)備、CIP清洗系統(tǒng)、制藥級(jí)別清洗設(shè)備、CIP清洗設(shè)備CIP在位清洗系統(tǒng)